• Оптимальная стабильность температуры от 400-800 ° C
• Контроль размера и ориентации зерна для создания широкого диапазона морфологии пленки, от аморфного кремния до случайно ориентированных микрокристаллических зерен и зерен цилиндрической формы
• Способность осаждать легированный кремний прямо на месте, (легирование P, As) и поликристаллический Si1-xGex

Установка Applied Centura POLYgen LPCVD (химическое парофазное осаждение при низком давлении) сочетает в себе передовые технологические возможности и проверенное временем оборудование, обеспечивающее контроль морфологии пленки и местное легирование кремния (P, As) и поликристаллического Si1-xGex с высокой однородностью пленки. Доказано, что интеграция с образованием оксинитрида снижает эквивалентную толщину оксида (EOT) на>1Å. Установка позволяет обеспечить оптимальные условия для стабильности температуры в диапазоне 400-800 ° C. Контроль размера и ориентации зерна позволяет осаждать широкий диапазон морфологии пленки, от аморфного кремния до случайно ориентированных микрокристаллических зерен и зернен цилиндрической формы. Возможность очистки на прямо месте позволяет сократить время простоя.